第82章 双管齐下，继续推进硅电晶体研製工作！（1 / 5）
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当然。
也不是所有的研究都一帆风顺。
王寿吾道：
“光刻和扩散，是我们现在面临的两大难题。”
“手工光刻误差太大。”
“而开关扩散的掺杂，不仅存在波动，同一电晶体上的閾值电压差异——””
他说完后。
眾人陷入沉思。
江阳也没有著急开口，而是等待眾人討论。
毕竟他不能什么都解决。
没过多久。
很快便有人开口，道：
“我认为，可以尝试从光刻胶上取得突破。”
听到他的话。
所有人都下意识地看向江阳。 ↑↑